A股：防腐概念上市公司股票，這份名單拿好�。�2025/5/9）

據(jù)南方財(cái)富網(wǎng)概念查詢工具數(shù)據(jù)顯示，以下是相關(guān)概念股票：

渝三峽A：5月9日收盤消息，渝三峽Ａ5日內(nèi)股價(jià)上漲18.82%，今年來漲幅上漲41.83%，最新報(bào)9.300元，成交額15.1億元。

公司2024年第三季度季報(bào)顯示，渝三峽Ａ實(shí)現(xiàn)總營(yíng)收9244.21萬(wàn)，同比增長(zhǎng)-23.3%；凈利潤(rùn)為-503.79萬(wàn)，同比增長(zhǎng)-284.66%。

公司2024年1-12月實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入3.5億元，同比下降29.9%；凈利潤(rùn)437萬(wàn)元，同比扭虧為盈，上年同期虧損3481萬(wàn)元。2024年，傳統(tǒng)防腐涂料行業(yè)低迷，市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)加劇，導(dǎo)致主營(yíng)業(yè)務(wù)深度回調(diào)；面對(duì)嚴(yán)峻挑戰(zhàn)，公司圍繞“守正創(chuàng)新，自立自強(qiáng)”的發(fā)展主線，回歸商業(yè)本質(zhì)，堅(jiān)持“以市場(chǎng)為導(dǎo)向、以客戶為中心”的經(jīng)營(yíng)理念，狠抓研發(fā)、營(yíng)銷兩大發(fā)展引擎，保持了生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)穩(wěn)健運(yùn)行。

飛鹿股份：5月9日飛鹿股份(300665)公布，截至15點(diǎn)收盤，飛鹿股份股價(jià)報(bào)7.510元，跌0.53%，市值為14.23億元，近5日內(nèi)股價(jià)上漲3.73%，成交金額3692.42萬(wàn)元。

飛鹿股份2024年第三季度季報(bào)顯示，公司營(yíng)收1.54億，同比增長(zhǎng)-11.76%；實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤(rùn)-1852.45萬(wàn)，同比增長(zhǎng)4.36%；每股收益為-0.1元。

公司預(yù)計(jì)2023年1-12月實(shí)現(xiàn)盈利1，700.00萬(wàn)元-2，500.00萬(wàn)元，同比扭虧為盈，上年同期虧損10，236.76萬(wàn)元。報(bào)告期內(nèi)，公司防腐及防水材料等營(yíng)業(yè)收入較上年同期穩(wěn)健上升，新規(guī)劃的新能源賽道在2023年實(shí)現(xiàn)業(yè)績(jī)突破。

宏昌電子：5月9日消息，截至收盤宏昌電子跌2.39%，報(bào)5.730元，換手率1.83%，成交量2072.8萬(wàn)手，成交額1.19億元。

2024年第四季度，宏昌電子營(yíng)收同比增長(zhǎng)-1.18%至5.25億元，凈利潤(rùn)同比增長(zhǎng)-43.61%至1388.97萬(wàn)元，毛利潤(rùn)為3983萬(wàn)，毛利率7.58%。

公司主要從事電子級(jí)環(huán)氧樹脂的生產(chǎn)和銷售，是國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的電子級(jí)環(huán)氧樹脂專業(yè)生產(chǎn)廠商之一。公司以電子級(jí)環(huán)氧樹脂為主要產(chǎn)品，從形態(tài)上分為液態(tài)型、固態(tài)型、溶劑型及阻燃型環(huán)氧樹脂，由于環(huán)氧樹脂具有優(yōu)良的絕緣性、防腐性、耐化性、耐熱性和接著性，被廣泛應(yīng)用于電子電氣的絕緣和封裝、涂料、復(fù)合材料、建筑材料和粘接劑等領(lǐng)域。3D打印機(jī)使用液態(tài)環(huán)氧樹脂，通過激光使樹脂硬化成形，公司產(chǎn)品是3D打印的主要材料。

安集科技：5月9日安集科技（688019）開盤報(bào)185.51元，截至12時(shí)42分，該股報(bào)183.970元跌2.61%，成交4.16億元，換手率1.76%。

公司2024年第三季度季報(bào)顯示，安集科技總營(yíng)收5.15億，毛利率59.86%，每股收益1.23元。

根據(jù)光刻膠下游應(yīng)用領(lǐng)域不同，公司光刻膠去除劑包括集成電路制造用、晶圓級(jí)封裝用、LED/OLED用等系列產(chǎn)品。公司產(chǎn)品光刻膠去除劑是用于圖形化工藝光刻膠殘留物去除的高端濕化學(xué)品。光刻膠去除劑一般由去除劑、溶劑、螯合劑、緩蝕劑等組成，其中關(guān)鍵是去除劑和溶劑的選擇，從而獲得優(yōu)異的交聯(lián)光刻膠聚合物的去除；螯合劑及緩蝕劑等添加劑提供金屬及非金屬基材分子級(jí)、原子級(jí)保護(hù)，并進(jìn)行光刻膠殘留物選擇性去除。公司光刻膠去除劑的核心技術(shù)包括光阻清洗中金屬防腐蝕技術(shù)、光刻膠殘留物去除技術(shù)。

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